玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究-SMT服务网

用户名：

密码：

个人会员企业会员

供求

企业

配件

文章

新闻

资料

原厂

视频

信息搜索：

您的位置: SMT服务网 >> 技术文章 >> 基础知识 >> 玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究

文章分类

基础知识 >> 玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究

文章来源：网络采集发布时间:2006/10/18 11:10:37 发布时间:2006/10/18 11:10:37 【关闭】

1 引言

在微电子机械系统（MEMS）设计制造领域，双面镀膜光刻是针对硅及其它半导体基片发展起来的加工技术。在基片两面制作光刻图样并且实现映射对准曝光，如果图样不是轴向对称的，往往需要事先设计图样成镜像关系的两块掩模板，每块掩模板用于基片一