摩尔定律减速之争

　　Intel中国研究院院长方之熙认为，摩尔定律还将延续，技术的发展不会止步。目前Intel已开始15nm技术的研发，2011年将开始10nm 技术的研发。追溯Intel的历史，每两年一代的新技术推出从未延迟，例如2005年的65nm技术，2007年的45nm技术及2009年的32nm技术都为业界带来的全新的产品。“摩尔定律不会减速，但设计与制造成本的增加的确是事实，因此如何将更多的功能整合在一起，减少小批量产品将是对企业的一大挑战。”

　　Synopsys副总裁潘建岳认为，摩尔定律的延缓从45nm开始已很明显，在之前的90nm和65nm，自技术开发成熟后，大批量产品上市 ramp up通常需要2年的时间，但在 45nm技术代，ramp up速度已明显出现了滞后。不过这对中国的半导体产业来说是件好事，因为我们追赶国际先进的脚步将因此而更快。

　　在摩尔定律的引导下，更多的科学家在探索新材料与新工艺。SEMI中国区总裁陆郝安指出，为了提高半导体的性能，越来越多的元素已被成功应用于半导体工艺之中。HKMG等新材料与新工艺的应用将使半导体技术不断发展自己，并超越自己。

　　摩尔定律的超越

　　Intel在追逐摩尔定律的同时，More Than Moore也是Intel中国研究院的重点研究课题之一。方之熙介绍，CPU与存储器的3D封装将可能是未来的发展方向之一。为解决CPU与Memory 之间传送速度及管脚限制等问题，光互连传输已在Intel得到成功开发。在Intel中国研究院10月中开幕仪式上，Intel就成功展示了第一套 Light Peak高速光连线技术原型验证平台，实现在Light Peak上承载DisplayPort 协议，传输带宽高达10Gbps。

　　SOC技术的发展也是业界关注的焦点之一。“目前的SOC技术才刚刚开始，都还只是简单的集成，”方之熙说。SOC未来在汽车电子等领域将有很大的发展空间。当然IP core的利用等问题也是需要仔细探讨的。

　　中国半导体产业的机会

　　半导体是新兴产业，也是高科技的代表行业之一。每一次的危机都会给产业带来新的变化。而此次中国在危机中率先复苏，就充分证明了中国的实力。中国半导体行业协会理事长江上舟认为，目前越来越多的IDM向Fab Lite转型，这对中国半导体制造产业来说无疑是一个重大机遇。中国的半导体制造、设计与设备行业都应该努力迈向世界先进水平。

　　陆郝安说，SEMI作为国际半导体行业协会，愿意搭建国际的沟通桥梁，中国业者只要坚定信心，就必定有更大的发展。