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行业新闻  

[台湾]Mentor2006 Calibre xRC 研讨会

文章来源:最新采集     发布时间:2006/4/25 7:32:59  【关闭】
全球领先的 EDA 电子自动化厂商─ Mentor Graphics 明导国际将在 5 11 ( 星期四 ) 上午 9:00 至中午 12:30 假 新竹国宾大饭店 举行 Calibre xRC 研讨会,会中将针对 65nm 以及 RF design 两个重要的应用领域来介绍如何克服寄生参数萃取问题的挑战。 Calibre xRC Mentor Graphics 萃取寄生参数 (parasitic extraction) 问题的突破性工具,其萃取引擎可提供必要的精确度和萃取效能。 Calibre xRC 本身也提供一个完整流程,可将重点放在所选择的必要数据,并可产生多种不同的网表格式数据,以便支持不同的后布局分析工具。

这次研讨会特别邀请到 Mentor Graphics ( 明导国际 ) 美国总部技术营销顾问 Dusan Petranovic 做说明。 Dusan 曾于美国加州克莱尔门 ( Claremont ) 的哈魏穆得学院( Harvey Mudd College )任教六年,也曾经在圣塔克拉克大学( Santa Clara University )教授研究所课程。 1997 年至 2003 年期间,他加入 LSI Logic Advanced Development Laboratory 成为其技术幕僚的一员,于 LSI s Process R&D 部门,负责高速数字回路设计的连接模块设计。他目前任职于 Mentor Graphics Design to Silicon group 以及 Santa Clara University 的奈米结构 (Nanostructures) 中心。

本活动完全免费,会后, Mentor Graphics 更为您准备了精致美味的餐点供您享用,还有机会抽中超炫飞利浦数位相框 ! 现场座位有限,欢迎业界菁英共襄盛举。活动相关细节,请参考: http://mentor.my-event.net/default.html

关于 Mentor Graphics
明导国际为电子设计自动化领导厂商,创立于 1981 年,全球员工超过 3850 人,致力 3 于为电子设计业者提供快捷高效的 PCB IC 设计 解决方案,协助客户面对与日俱增 的设计挑战和
 
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